引言

在进行散射光线追迹时，如模拟墙面散射，毛玻璃、扩散片或其它粗糙表面的光线散射时，经常会遇到如下情况：

 光线经散射体散射到空间后，光束杂乱传播，而我们真正感兴趣的探测区域可能只是很小的一块。

这时为了探测到尽可能多的光线，在探测器得到平滑结果，通常需要追迹大量的散射光线。

 为了解决这个问题，ZEMAX提供了重点采样的功能。

 下面我们来创建一个简单的散射系统，着重理解重点采样的方法。

 打开ZEMAX软件，切换到非序列模式：

 创建一束平行光照射到散射面上。点击物体特性对话框选择椭圆光源：

 设置椭圆光源参数：

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 插入散射片和探测器：

 散射片使用矩形片代替：

 设置矩形片Z位置10，旋转X为30度，尺寸大小为4*4，材料为Mirror，打开物体特性对话框设置散射特性：

 添加探测器：

 探测位置Y=6，Z=-5，材料Absorb，尺寸大小为1*1，像素100*100:

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 打开L3n查看光线输出情况，点击右键打开设置对话框，将散射选项选中：

 双击视图，每次双击更新后都可以看到光线重新分布，我们可以看到只有很少的光线打到探测器上。

点击Dcl进行光线追迹：

 可以看出，追迹完成后，探测面上噪点很多，没有得到一个平滑的结果：

 这是因为大量散射光线在空间损失掉了，击中探测器上的只占了很小一部分。为了提高结果的平滑度，我们只需追迹感兴趣的区域，忽略掉其它散射光线，这时需要用重点采样功能。

 打开散射矩形片特性对话框，设置重点采样：

 我们通过设置重点采样的目标方向和目标尺寸，就可实现特定区域的光线追迹：

 上面视图显示了重点采样后的光线输出，查看探测结果如下：

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