引言
ZEMAX软件有两个工作模式：序列成像模式和非序列照明模式。
我们在设计成像镜头时，使用几何光学的方法，在ZEMAX中可快速优化到要求的结果，校正像差。
但在进行杂散光分析时，需使用物理光线（光线按表面实际光学特性传播），如表面的菲涅尔反射，表面不平滑产生的散射等，
此时序列模式便不能完成这种要求，需把我们设计好的镜头转成非序列镜头分析。
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那么我们来看如何将设计好的成像系统直接转为非序列来分析。
以经典双高斯系统为例，打开{zemax目录：\Samples\Sequential\Objectives\Double Gauss 5 degree field.zmx}:
这是一个设计好的镜头，假设我们用它来分析杂散光，而转到非序列模式下分析。
我们将所有透镜口径加大20%，点击General中的透镜口径加工余量设置，可直接设置大小或百分比:
再将所有透镜口径固定，因为我们优化系统时，所有透镜半口径是自动跟随有效光束尺寸变化的，在任何一行的Semi-diameter栏点右键，都会发现
此面上口径的求解类型为“自动”（Automatic），我们在转非序列模式前，需将这些口径固定住，即设置为Fixed。
如果手动一个一个输入当然可以，但面数多的时候较耗费时间。我们使用软件的快捷方式，将所有面转为固定孔径。
点击Tools<<Apertures<<Convert Semi-diameters to Circular Apertures
此时我们看到所有行的Semi-Diameter栏下都将出现一个U字母，这个表示User-Defined孔径：
做完准备工作，最后我们选择Tools<<Miscellaneous<<Convert to NSC Group
提示对话框：
选择从第一面到最后一面，这样会将整个镜头组转为非序列元件，另外注意勾选图上红框内选项，表示直接转为纯非序列模式分析。
点击确定后，我们看到模式会自动切换为非序列模式：
点击下图所示菜单打开阴影模式图，我们的双高斯镜头成功转化为非序列元件：
之后我们可以添加非序列光源，进行光线追迹，查看杂散光效果，此过程我们将会在其它知识库文章分别为大家讲解。
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