引言
在很多反射光学系统中，一般反射后主光线将不再沿轴传播，这样为了避免反射回的光线与前面的光学元件相互作用。
这就意味着，反射元件必然发生了倾斜，即我们所说的离轴！
在反射式成像系统中，离轴之后的光束通常不会入射在反射面的正中间（不再旋转对称），而是偏离反射面一定的范围。
由于以上原因，我们在真正加工这样的反射面时，通常也只是加工利用到的这一部分，同样，在设计时我们也只需画出这一部分的图形即可。
如何在ZEMAX的序列或非序列模式下定义出想要的任意表面形状呢？
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光斑能利用到的表面部分，也就是这个表面的有效区域，我们以下面这个抛物面反射系统为例：
如上图所示，光线只利用到了抛物面红圈内的部分，其它都是无用的区域，我们只需将红圈范围的表面剪切下来即可。
这是在序列模式下的离轴系统，操作起来就非常方便。
首先，打开光路足迹图功能: Analysis >> Misc >> Footprint Diagram,选择这个抛物面，得到如下结果：
将光标置于光斑图中心，可看到光斑偏离抛物面-Y方向大约195mm，光斑半径大约60mm。
此时我们就知道这个离轴抛物面的孔径形状大概要剪切成多大了，打开这个反射面特性对话框，设置离轴即可：
接下来，我们将这个系统转换为非序列模式：Tool >> Misc >> Conver to NSC Group
此时软件会自动帮我们计算非序列下离轴面的形状大小，并自动生成孔径：
打开物体的非序列面型特性对话框，会发现离轴面其实是使用自定义孔径方法生成的：
通过以上方法，我们可以自定义任意形状的离轴物体，举一反三。
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