例4.斜入射和薄层清除 

参数为：400-700nm AR  取40个线性光谱点 考虑0、30、45度入射角；   基底:GLASS(1.52) ；

层材料: ZnS(2.35)，MgF2(1.38)，SiO2(1.45)，ZrO2(1.95)，Al203(1.65). 

 设计：打开工作文件目录，再打开Datebase-Target窗口，Data_Target，新建新设计目标AR400-700，输入设计目标400-700nm范围的减反膜，0、30、45度入射s和p偏振光：

 在特性参数中选择RS和RA，

 输入40个光谱点数，考察波长范围400-700nm，如图：

 设定入射角度，单击Angle，出现角度输入窗口，输入角度数目为3，

 单击Apply，再单击OK。

 Load新建的设计目，新建并Load基底和层材料，查看评估图，

 采用渐近优化方法来优化设计，设定中止条件为最大物理厚度1000nm(可以根据实际要求自己设定中止条件)，

 将鼠标放在厚度颜色条上即可看所采用的材料(缩写)，而查看并修改材料缩写及材料是否启用为：Data_Arrange Materials(或在图上单击右键选中Materials)，出现分析选项窗口，

 从中可看出各中层材料的缩写(Abbr栏)也可修改其缩写，State栏中Active表示材料已启用，Passive表示材料被禁用。现在我们仅采用H和L两种材料做同样设计，将A、B和C三种材料状态改为Passive，单击Apply，再清除已完成设计，Data_Remove Design，然后再采用渐近优化方法来优化设计，如图我们可以看到可用材料仅剩H和L，

 Analysis_Refractive Index Profile，可查看厚度方向折射率剖面图

 由上图可看出薄膜设计结果存在一些薄的膜层，在OptiLayer中我们可通过清除合并薄的膜层以减少薄膜层数。Synthesis_Thin Layer Removal，

 它有自动和手动两种方式，自动优化方式设定中止条件(1)差异函数允许最大波动范围(2)允许清除最大薄层厚度。可以选两者之一也可都选。现我们采用自动优化方式，差异函数允许最大波动范围5%，

 我们还可通过Synthesis_Design Cleaner进一步清除薄层，

 关于薄层清除我们可以参考Problem中的设计示例LEC03D6，当层数减少10层时，差异函数值增大不超过2%，如图：

 文章出处：http://opturn.blog.sohu.com/

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