参数为：500-600nm AR  QWM@500,   12L     基底:GLASS(1.52)  

层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). 

设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.  

打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜：

 单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口：

 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。

 单击Next_Apply即可。

 于上表中单击波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现

 网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可）

 单击OK.再Load新建的目标，

 其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图

 优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。

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