ZEMAX中如何设置渐晕？

引言

首先我们需了解光学系统中渐晕的概念。

渐晕效应：在光学系统中，当远离光轴的物点成像时，由于光阑的存在，使能够到达像面上的光束

逐渐变得窄小起来，结果使离轴的像点逐渐变暗，这个过程叫做渐晕效应。

那么在光学镜头设计中，对物面光线进入像空间的限制有两种情况：光阑限制和渐晕限制。

光阑拦光的情况属于正常系统设计光线，即通过光阑来限制物方视场光束大小（由物面或像

面的相对大小决定）。而光阑之外的元件拦光，则属于渐晕，即把正常通光的透镜口径变小

使某些边缘光线不能进入像面。在相对照度要求允许的情况下，主要为了减小边缘视场像差。

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