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引言

 ZEMAX软件有两个工作模式:序列成像模式和非序列照明模式。

 我们在设计成像镜头时,使用几何光学的方法,在ZEMAX中可快速优化到要求的结果,校正像差。

 但在进行杂散光分析时,需使用物理光线(光线按表面实际光学特性传播),如表面的菲涅尔反射,表面不平滑产生的散射等,

此时序列模式便不能完成这种要求,需把我们设计好的镜头转成非序列镜头分析。