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引言

 在很多反射光学系统中,一般反射后主光线将不再沿轴传播,这样为了避免反射回的光线与前面的光学元件相互作用。

 这就意味着,反射元件必然发生了倾斜,即我们所说的离轴!

 在反射式成像系统中,离轴之后的光束通常不会入射在反射面的正中间(不再旋转对称),而是偏离反射面一定的范围。

 由于以上原因,我们在真正加工这样的反射面时,通常也只是加工利用到的这一部分,同样,在设计时我们也只需画出这一部分的图形即可。

 如何在ZEMAX的序列或非序列模式下定义出想要的任意表面形状呢?


 光斑能利用到的表面部分,也就是这个表面的有效区域,我们以下面这个抛物面反射系统为例:

 如上图所示,光线只利用到了抛物面红圈内的部分,其它都是无用的区域,我们只需将红圈范围的表面剪切下来即可。

 这是在序列模式下的离轴系统,操作起来就非常方便。