引言

ZEMAX软件有两个工作模式：序列成像模式和非序列照明模式。

我们在设计成像镜头时，使用几何光学的方法，在ZEMAX中可快速优化到要求的结果，校正像差。

但在进行杂散光分析时，需使用物理光线（光线按表面实际光学特性传播），如表面的菲涅尔反射，表面不平滑产生的散射等，

此时序列模式便不能完成这种要求，需把我们设计好的镜头转成非序列镜头分析。