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ZEMAX非序列模式下如何创建离轴反射面?
南京光科信息技术有限公司 - 光科技术团队 [Support] 发布时间 2011年10月20日 - 阅读 14934
引言

在很多反射光学系统中,一般反射后主光线将不再沿轴传播,这样为了避免反射回的光线与前面的光学元件相互作用。

这就意味着,反射元件必然发生了倾斜,即我们所说的离轴!

在反射式成像系统中,离轴之后的光束通常不会入射在反射面的正中间(不再旋转对称),而是偏离反射面一定的范围。

由于以上原因,我们在真正加工这样的反射面时,通常也只是加工利用到的这一部分,同样,在设计时我们也只需画出这一部分的图形即可。

如何在ZEMAX的序列或非序列模式下定义出想要的任意表面形状呢?


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