例:评估一四分之一波片的光谱特性:

参数为：QWM@500,    12L     基底:GLASS(1.52)

层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).

Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.

打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase

单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称

单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK

然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。

同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：

单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：

在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口

可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots

在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：

上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。

单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：

保存：Data_Save Design。